産業技術総合研究所は18日、エレクトロニクス研究部門 先端シリコンデバイスグループの大内 真一 研究員、昌原 明植 主任研究員らが、システムLSIの面積の50%以上を占めるSRAMの動作安定性を、従来技術の1.5倍に高める高性能な新回路を考案したことを発表した。
丸い柱に貼られたポスターを見ていたとしよう。この柱を回り…
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